第403章半導體納米研究院

開掛的創業日常 第403章半導體納米研究院

這項技術雖然沒有大規模商業化，但已經有了雄厚的基礎，在過去的二十年間，全球科學家圍繞半導體納米線開展了系統深入的研究，為半導體納米線功能器件領域，帶來了蓬勃發展。

根據WebofScience的檢索結果統計，從1999年到2015年，全世界關于半導體納米線研究SCI論文總數超過17萬篇。

經過這些年的發展，大家對半導體納米線的可控制備、性能調控、器件構筑與應用的認識不斷加深。

半導體納米線技術也漸漸在不同領域，展現了巨大應用潛力，正逐漸從基礎研究走向實際應用。

目前，基于半導體納米線的場效應管、納米發電機、納米芯片、場發射器件、太陽能電池、發光二極管、激光器、光電探測器、光波導器件、存儲器件、光催化以及高敏感化學與生物傳感器等功能器件，相繼被研制出來。

雖然，這些僅僅是實驗室產品，成本極高，并無法大規模商用。

它未來的潛力和價值，卻是無法估量的。

特別是在半導體領域，半導體納米線承載著全球科學家的期盼，有望實現半導體功能器件領域的變革性發展。

根據一些相關領域的大牛展望，半導體納米線功能器件，或許將成為納米科技走向應用的重要突破點。

對芯片、各種半導體器材而言，小型化、低能耗和智能化一直是其重要的發展趨勢。

當半導體器件線寬小于100nm時，將對設備和制造工藝提出更高要求，成本增加巨大，傳統工藝的局限性越嚴重。

而基于傳統工藝的光刻機，從起初的UV光刻機水平，逐步提升到了DUV光刻機水平，再發展到現在的EUV光刻機水平，在這條路上越走越遠。

設備越來越大，成本越來越高。

它還有一個致命的缺點，就是有自身的物理極限，發展到一定的地步，就無法再深入發展下去了。

眾所周知，光刻機也稱紫外線光刻機，是利用紫外線加工芯片，DUV光刻機就是深紫外線光刻機，EUV光刻機就是極深紫外線光刻機。

光的顏色越靠近紅色，它的頻率越低；越靠近紫色，它的頻率就越高。光的速度是一個常數，頻率越高，波長越小。

EUV光刻機采用的光頻率是極深紫外線頻率，對應的波長大約為1015納米；DUV光刻機采用的光頻率是深紫外線頻率，對應的波長大約為200納米；UV光刻機采用的光頻率是紫外線頻率，其對應的波長大約為360納米。

也就是說，光刻機越先進，需要的光頻率越高。

光的頻率，它是一個物理客觀存在的數值，是很難通過人為的手段去改變提高的。

現在采用的是極深紫外線頻率，很難再找到更高頻率的光線，所以光刻機的水平也很難再被提升。

光刻機技術得不到提升，直接導致芯片的制造工藝得不到有效地提升，也讓芯片的制造工藝不可能由14納米、7納米、5納米、3納米、2納米這樣一直小下去，它是有物理極限的。

另外，用光刻機制造芯片的原材料硅晶，也有他自身的材料極限。

硅晶的最小的單位“硅原子”直徑大約為0.22納米。

如今傳統的芯片制造工藝，是不可能比硅原子還小，超過0.22納米。這個也是它的一個物理極限。

也就是說，傳統的芯片制造工藝有兩大極限。

一個是制造芯片需要的光刻機設備，光刻機采用光的頻率，它是有物理極限的。

另一個是制造芯片需要的硅材料。芯片內部的晶體管，做得再小，是不可能比硅原子還小的，這也是它的物理極限。

這兩個條件，任何一個達到極限，傳統的芯片制造工藝就不可能再進步了。

也就代表，以光刻機和硅晶為原料的芯片制造技術，這條路走到了盡頭。

而以半導體納米線為代表的新技術，相比傳統的半導體技術，卻沒有這些限制。

它的極限，它的潛力，遠不是如今的傳統半導體技術所能相比的。

不過，盡管知道半導體納米技術才代表著未來，以英特爾為首的半導體企業，卻在這方面，淺嘗輒止，主要精力仍然放在傳統的半導體制造技術上。

主要原因有兩個，一是作為一項新技術，想要在半導體納米線領域趟一條路，打造一個完整的體系，需要天量的資金，和極長的時間，去突破那些技術壁壘。

而且，短時間內很難商業化，用市場回籠資金去推進技術發展，只能用傳統半導體技術產生利潤給它輸血。

根據目前的半導體納米線技術，制造出來的芯片和半導體元器件，大概只有九十年代末的水平。

和目前傳統工藝的半導體制造技術，根本沒有可比性。

另一方面，以英特爾為首的半導體企業，幾十年來，在傳統半導體制造技術上投入了大量的資源，擁有無可匹敵的雄厚基礎和優勢。

目前的半導體制造技術尚未達到極限，還有許多潛力可供挖掘，這個時間將是以十年為單位。

它們不可能放棄在這一體系的巨大技術優勢和專利，幾十年的雄厚積累，重新調轉車頭，大力推進半導體納米線技術，和別的新興企業站在同一起跑線上。

這是一個艱難的選擇。

對林睿來說，就沒有這方面的煩惱了。

本身星空研究院和中芯國際，在傳統半導體領域就沒有多么深厚的技術積累，船小好點頭，也沒什么值得可惜的。

反而能和其他半導體巨頭企業站在同一起跑線上，公平競爭。

隨后，星空研究院下屬的第九大分院，“半導體納米研究院”成立。

新材料研究院關于納米技術的所有技術和人員，也將轉移到新設立的“半導體納米研究院。”

林睿準備用十年時間和天量的資金，去推進和完善這套技術體系，并進行商業化嘗試。

等傳統的半導體制造體系走到極限，再用新技術一舉顛覆他們，即便如今的這些半導體巨頭半路上車，也加入到這套體系。

星空研究院也有了無可匹敵的技術積累和專利優勢，直接立于不敗之地。